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  • MC-LMBE / PAC-LMBE 激光分子束外延系統
MC-LMBE / PAC-LMBE 激光分子束外延系統

MC-LMBE / PAC-LMBE 激光分子束外延系統

  • 激光分子束外延(Laser MBE)是上個世紀90年代發展起來的一種新型高精密制膜技術,它集PLD的制膜特點和傳統MBE的超高真空精確控制原子尺度外延生長的原位實時監控為一體,除保持了PLD方法制備的膜系寬,還可以生長通常的半導體超晶格材料,特別適合生長多元素、高熔點、復雜層狀結構的薄膜,如超導體、光學晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機高分子等。

產品詳情

激光分子束外延(Laser MBE)是上個世紀90年代發展起來的一種新型高精密制膜技術,它集PLD的制膜特點和傳統MBE的超高真空精確控制原子尺度外延生長的原位實時監控為一體,除保持了PLD方法制備的膜系寬,還可以生長通常的半導體超晶格材料,特別適合生長多元素、高熔點、復雜層狀結構的薄膜,如超導體、光學晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體以及有機高分子等,同時還能進行其相應的激光與物質相互作用和成膜過程的物理、化學等方面的基礎研究。

日本Pascal公司一直致力于PLDLaser MBE系統的研發工作,已經向世界上知名的高校或研究所提供了高性能、高穩定的設備。在Laser MBE中,使用脈沖激光源,而且與通過石英窗口和超高真空系統隔離。高能量密度的脈沖激光將靶材局部氣化而產生激光焰,被剝蝕的粒子獲得很高的動能,達到可以加熱的襯底表面形成薄膜。薄膜的生長過程可由反射式高能電子衍射(RHEED)系統監控。RHEED的衍射條紋提供薄膜生長的晶體結構和表面形貌,強度振蕩判斷薄膜生長的機理。其強度振蕩可由彈性散射模型進行解釋。

Pascal生產的Laser MBE系統具有如下的優勢
1. 靶源易蒸發。即使是高熔點的材料,如氧化物,也很容易蒸發。
2. 化學計量比準確。沉積的薄膜和靶材的化學組分幾乎完全一樣。
3. 污染少。
4. 激光脈沖的重復頻率可進行薄膜厚度/生長速率的數字式或非連續性控制。
5. 差分抽氣結構,可在非常寬的氣壓范圍內工作。
6. 靶材的交換簡單快捷,有利于實現異質外延和多層結構的生長。
7. 結構緊湊,含有許多獨特的技術,如襯底加熱和樣品或靶材的進樣-自鎖交換裝置等。

用于材料科學的組合(Combinatorial)技術
一次合成一個樣品,該樣品描寫了不同合成條件的組合結果,然后進行篩選產品,這整個過程是一種組合化學”(Combinatorial Chemistry)。目前,這種技術在醫學或藥學的發展將顯得非常必要。而且,由此產生的研究結果正在呈指數上升。
為什么不在薄膜研究中引進該方案呢?從方案的初始階段,我們就一直與學術界共同研發組合式PLD。我們豐富的經驗將有助于薄膜的研究和開發。

應用

1.藍光ZnO GaN 新材料研發
2.氧化物微奈米薄膜、STO 壓電薄膜
3.奈米磁性薄膜
4.超導體材料
5.高能材料
6.新尖端組合材料 (Combinatorial Materials)

新型薄膜和器件方面的應用

我們設計的生長系統可用于多種薄膜的生長,包括GaN、有機薄膜以及結型器件的制備,如金剛石、富勒烯球碳和含有氧化物的Si結型器件等。


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