M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑最大為8英寸的晶圓片或最大6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)（溫度，加熱時(shí)間）可以隨時(shí)更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調(diào)節(jié)。可在1到999秒之間設(shè)置處理時(shí)間。
產(chǎn)品參數(shù)：
? 型號(hào)：M-HP 200 Hotplate熱板
? 處理尺寸：直徑最大8英寸晶圓片或最大6 英寸x6英寸基板
? 溫度范圍：20°C至250°C可調(diào)
? 功率：600瓦
? 加熱時(shí)間：從1到9999秒
? 熱板表面安全蓋材質(zhì)：不銹鋼
? 不帶蓋的熱板尺寸：約350mm x 350mm x 200mm
? 控制器的尺寸：約135mm x 145mm x 95mm
? 臺(tái)式柜的尺寸：約 460mm x 360mm x 325mm
? 重量：約200磅
主營(yíng)產(chǎn)品：
Laurell勻膠機(jī)
Harrick等離子清洗機(jī)
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺(tái)
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機(jī)
Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Nilt納米壓印機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)
聯(lián)系人：林經(jīng)理
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